Лабораторная система анализа толщины пленок ST2000-DLXn
Система измерения толщины пленок была разработана для научных исследований и разработок в лабораториях для измерения толщины тонких пленок, а также в системах контроля качества и мониторинга процесса в линиях по производству; полупроводников, FPD, в нанотехнологий, электронных материалов и специальных пленок. Так, например, в полупроводниковой промышленности, каждая тонкая пленка осажденная на подложке должна быть получена на основе точного дизайна и чертежа. Система анализа толщин тонких пленок используется для контроля процесса изготовления и определения уровня качества продукта путем измерения толщины тонких пленок. Существуют различные методы для измерения толщины пленки: стилусом на основе механической технологии, микроскопические технологии и оптические технологии, как правило, наиболее широко используемые. Измерительная система толщина пленки SpectraThick компании K-MAC, является адаптированной усовершенствованной технологией с использованием оптического метода. Таким образом, явление интерференции между отраженными световыми сигналами на поверхности пленки и поверхностью подложки или разность фаз света определяет свойства пленки. Таким образом, мы можем измерить не только толщину пленки, но и её оптические параметры постоянные. Если пленка прозрачная и поддерживает оптическую интерференцию, то любой образец такой пленки может быть измерен с Spectra Thick профилометром интерферометром компании K-MAC. Толщина каждого слоя многослойной пленки может быть измерена с помощью математического расчета по формулам. Благодаря интуитивно понятному интерфейсу, операция с использованием программного обеспечения позволит очень просто вычислить толщину пленки. Анализ будет неразрущающим, т.е. без ущерба для образца, обладая широким диапазоном толщин от агстрем до десятков микрон. Скачать брошюру.
Спецификации Размеры 190 x 265 x 316 мм Вес 12 кг Тип Ручной Размер измеряемого образца < 4" Метод измерения Безконтактный Принцип измерения Рефлектометр Особенности Скорость измерений & Простота в работе
безконтактный & неразрушающий
превосходная повторяемость & воспроизводимость
Windows дружественный интерфейс
функция печати к каждому виду & сохранение данных
*поддержка до 3 слоев
*поддержка обратного отражения
Особенности
Размер платформы 150 x 120 мм(диапазон перемещений 70 x 50 мм)
Диапазон измерений 200 Ангстрем ~ 35 мкм (зависит от типа пленки)
Размер пятна 20 мкм
Скорость измерений 1~2 сек/место
Область применения Полимеры : PVA, PET, PP, PR ...
Диэлектрики :
Полупроводники : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
Опционально Эталонный стандкртный образец(K-MAC, KRISS, NIST)
Голова Тринокуляр
Башня Четырехместный револьверный механизм с внутренним наклоном
Тип освещения 12В 35Вт галогеновая лампа с встроенным контроллером и трансформатором
