Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ Бюджетная полностью с ручным управлением установки MDA-400LJ широко применяется для технологий изготовленияMEMS, оптоэлектроники и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства. Обработка пластин до 100 мм.
Ручное совмещение и ручное экспонирование.
Особенности:
Прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 4'' (100мм)
Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
УФ излучения для экспонирования с длиной волны 365 нм.
Антивибрационный стол (опция)
Эргономичный дизайн для удобного использования
Низкая стоимость/высокое качество
Брошюра -MDA-400LJ в pdf.
Характеристики:
Лампы UV-LED источник света с контролем интенсивности и мощности излучения с длиной волны 365 нм. (для i-line резистов)
Размер подложки кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма
Точность совмещения 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм)
Размер маски до 5 х 5 дюймов
Оптическое зрение Микроскоп двойного поля 1.4x~9x, двойной монитор
Размер однородного пучка излучения 125 мм в диаметре
Однородность пучка < 3%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 10 мВт/см2
Режим управления Полностью ручной
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс.
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z, по осям х,у± 5 мм) и по углу ? (± 4°)
движение по оси z - 10 мм
Выравнивание Компенсация ошибки клина
Методы экспонирования Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором(регулируемое 1 мкм)
Стол Антивибрационный стол (опция)
