Система для производства фотошаблонов JBX-3050MV производства JEOL Установка элеткронно-лучевой литографии JEOLJBX-3050MV (Япония)
JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих(растровых) электронных микроскопов(РЭМ),просвечивающих электронных микроскопов(ПЭМ),анализаторов поверхности (ОЖЕ микроанализаторы, фотоэлектронные спектрометры, электронно-зондовые микроанализаторы EPMA), системы с фокусированным ионным пучком, масс-спектрометров, спектрометров ядерного магнитного резонанса (ЯМР) и систем электронно-лучевой литографии для производства полупроводниковых приборов.
Система для производства фотошаблонов JBX-3050MV производства JEOL (Япония)
В связи с ростом производства микросхем с высокими степенями интеграции, растет потребность мировой полупроводниковой промышленности в высокоточных высокопроизводительных системах производства фотошаблонов. Компания JEOL, являеющаяся лидером по производству промышленных систем электронно-лучевой литографии, следуя новейшим мировым тенденциям, выпустила новую модель - JBX-3050MV.
JBX-3050MV обладает высокими однородностью и плотностью пучка (до 40А/см2), возможностью изменять форму пучка, проводить векторное сканирование. Данная система вобрала все лучшие качества предыдущих моделей, включая лидера продаж десятилетия - JBX-3040MV. Она отличается высокой надежностью и производительностью, и, благодаря этому, за столь короткий период прекрасно себя зарекомендовала на ведущих предприятиях мира.
Основные технические характеристики:
Форма пучка Изменяемая Сканирование Векторное Ускоряющее напряжение 50 кВ Плотность тока 40А/см2 Однородность не более 3,5 нм (3? Точность позиционирования не более 7 нм (3?)
Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:
Электронная пушка Ускоряющее наряжение Минимальный размер пучка Размер пластин Форма пучка Развертка
JBX-3050MV LaB6 single crystal 50 кВ. 6 дюймов
(маски)
изменяемая Векторное сканирование
JBX-5500FS ZrO/W
(типа Шотки) 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины 100 мм пятно Векторное сканирование
JBX-6300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины до 200 мм. пятно Векторное сканирование
JBX-9300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ 4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ) пластины до 300 мм. пятно Векторное сканирование
