Фоторезист — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон д
Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МФП-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации односл
Характеристики и области применения продукта • Сухой пленочный негативный фоторезист. Обрабатывается водными растворами. • Материал специально разработан для нанесения рисунка схемы на химически
Установка First EIE EDI500 Direct Imager предназначена для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски, нанесенных на заготовку печатной платы. В устройстве используется оптика высоко
НАЗНАЧЕНИЕ: Удаления фоторезиста и очистка от органических примесей на пластинах диаметром до 150 мм. Стерилизация медицинских, в том числе термолабильных инструментов и материалов. ОСОБЕННОСТ