Фоторезист
|
Поделитесь страницей в Социальных сетях
|
|
Модифицированный сухой пленочный фоторезист МПФ-ВЩводно-щелочного проявления производится по ТУ 6-43-1568-93. Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МФП-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации однослойных или многослойных печатных плат по негативной или позитивной технологии. Фоторезист представляет собой слой несеребряного светочувствительного материала, нанесенного на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом.
Вас также могут заинтересовать
Фоторезист — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон д
Установка First EIE EDI500 Direct Imager предназначена для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски, нанесенных на заготовку печатной платы. В устройстве используется оптика высоко
Фоторезист жидкий для шелкографии является несеребряным негативным фотоматериалом, предназначенным для изготовления сеткотрафаретных экранов (трафаретных печатных форм). Фоторезист жидкий ФРЖ может пр
НАЗНАЧЕНИЕ: Удаления фоторезиста и очистка от органических примесей на пластинах диаметром до 150 мм. Стерилизация медицинских, в том числе термолабильных инструментов и материалов. ОСОБЕННОСТ
Внимание!
Информация по Фоторезист предоставлена компанией-поставщиком Диазоний, ООО. Для того, чтобы получить дополнительную информацию, узнать актуальную цену или условия постаки, нажмите ссылку «Отправить сообщение».
|
