Установка фотолитографии производства MIDAS SYSTEM MDA-80FA MDA-40FA / MDA-80FA/ MDA-12FA - полностью автоматические установки совмещения и экспонирования MIDAS SYSTEM Co., Ltd (Корея)
MIDAS SYSTEM Co., Ltd. - компания один из мировых лидеров в производстве систем фотолитографии для процессов производства полупроводников и FPD (Flat Panel Display) дисплеев. Компания предлагает установки исистемы совмещения и экспонирования, а также центрифуги для нанесения фоторезиста для технологийflip chip, полупроводниковые приборы, MEMS, оптоэлектроника, СВЧ приборы, дифракционная оптика, LED чипы и др.
MDA-40SA/ MDA-80FA / MDA-12FA - полностью автоматические установки совмещения и экспонирования
Установки MDA-40FA / MDA-80FA / MDA-12FA новый модель представляющая новое поколение полностью автоматических систем литографии. Новая платформа автоматической модели предлагает более высокие точности и более легкое управление. Идеальное решение для производства LED и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость. По запросу опция обратного совмещения с CCD камерой. Обработка пластин до 50, 100 мм / 150, 200мм. / 200, 300 мм.
Полностью автоматическое совмещение, автоматическое экспонирование.
Особенности:
Автоматическое совмещение
Автоматическая фокусировка
Автоматическая загрузка/выгрузка пластин
Удаленное управление
Подключениек роботу через RS-232
Короткое время обработкиодного цикла
Производительность 100 пластин в час.
Высокое качество и сравнительно низкая цена
Монитор с точскрином
Прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель пластин и подложек до 4'' / 12". Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
Операции с помощью компьютера.
Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
Антивибрационный стол
Эргономичный дизайн для удобного использования
Характеристики:
Модуль Параметр MDA-40FA Система экспонирования
Мощность лампы УФ источник света с мощностью 500 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Разрешение менее 2 микрон, жесткий контакт
Однородность пучка < 3%
Размер однородного пучка излучения 6,25 х 6,25 дюймов
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 15-20 мВт/см2(i-line),
Максимальная 20-30 мВт/см2(g-, h-, и i-line)
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс Точность совмещение
Точность совмещения 1 микрон
Регулировка при совмещении (зазор) от 20 до 200 мкм.
Точности при предварительном совмещении 50 мкм Автоматическое совмещение Наличие Ручное совмещение Наличие
Оптическое зрение Микроскоп двойного поля (увеличение регулируется),CCD камера, монитор
Моторизованный столик и совмещение Столик с моторизацией по осям X,Y,Z Theta
Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 5 мм) и по углу ? (± 5°)
Выравнивание Компенсация ошибки клина
автоматическое определение края - датчик давления)
Методы экспонирования Мягкий контакт, экспонирование с микрозазором (регулируемое 20 - 200 мкм с помощью системы на базе ПО) , жесткий контакт Пластины Размер пластин 50 мм, 100 мм./ Сапфир(Normal and PSS type) Производительность 100 пластин в час. Фотошаблоны Размер шаблона 5 дюймов Толщина шаблона 2,3 мм Подключение Вакуум > 650mmHg N2 > 4 кг/см2 Электропитание 220 В, 30 А, 1 фаза. Монитор 17 дюймов с точскрином
