Поиск:
 

Лабораторные установки быстрых термических процессов ANNEALSYS

RU-1000 Рейтинг
Поделитесь страницей в Социальных сетях
Лабораторные установки быстрых термических процессов ANNEALSYS
Компания ANNEALSYS производит системы для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром от 2 до 8 дюймов с температурным диапазоном от комнатной до 1500 °C и скоростью нагрева до 250°C/сек. Системы быстрых термических процессов компании ANNEALSYS используют для нагрева инфракрасные лампы и могут быть использованы для большого числа применений таких как Кремний (Si), полупроводниковые соединения, фотовольтаика, MEMS и и других. Типичные процессы для систем - это послеимплантационный отжиг, отжиг контактов, кристализация, уплотнение. Быстрое термическое окисление и азотирование также является применимым. Установки быстрых термических процессов (RTP): Установка AS-Micro Система для использования пластин диаметром до 3 дюймов для использования в лабораториях. Версия с двумя камерами для перекрестного загрязнения (cross contamination). Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1250°C Загрузка: ручная Установка AS-One Система для быстрых термических процессов с холодными стенками в исполнении для пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм) Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи) Загрузка: ручная Установка AS-Master Универсальная система для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция). Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) RTCVD послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи) Загрузка: ручная(опция: загрузка из кассеты в кассету)
Вас также могут заинтересовать

Лабораторная установка Эффект Комптона

"Лабораторная установка "Эффект Комптона" предназначена для проведения классического эксперимента по демонстрации корпускулярных свойств электромагнитного излучения. Установка сопровождается методичес

Лабораторная установка для анализа свойств материалов МВ01м

"Позволяет проводить экспресс-анализ механических свойств металла по параметрам инденторных испытаний; изучать влияние термической обработки на механические свойства стали и распределение механических

Малогабаритная установка для термической обработки сыпучих продуктов в потоке горячего воздуха.УСМ-1 - электрическая.

Установка УСМ-1, сконструированная и изготовляемая нашим предприятием, представляет собой компактное устройство, в котором продукт обрабатывается в фонтанирующем слое потоком нагретого в электрокалори

Электродиализное оборудование: промышленные и лабораторные установки и аппараты-электродиализаторы.

Электродиализное оборудование: промышленные и лабораторные установки и аппараты-электродиализаторы. Назначение: применяется для эффективного производства фармацевтических субстанций, в частности &nd

Лабораторная установка «кривая заряжения конденсатора»

Получаем понятие о: зарядке, разрядке, временной постоянной, экспоненциальной зависимости Эксперимент: Конденсатор заряжается через резистор. Измеряется зависимость силы тока от времени, определяютс
Внимание!
Информация по Лабораторные установки быстрых термических процессов ANNEALSYS предоставлена компанией-поставщиком ЭнергоАвангард, ООО. Для того, чтобы получить дополнительную информацию, узнать актуальную цену или условия постаки, нажмите ссылку «Отправить сообщение».
Контакты компании
Страна
Россия
Регион
Московская область
Город
Москва
Адрес
Москва, ул. Нижегородская, д. 70/2
Телефон
+7 (926) 1346915
Сделать запрос
Введите свое имя
Укажите свой Email
Напишите ваш вопрос
Подтвердите согласие