Установка First EIE EDI500 Direct Imager предназначена для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски, нанесенных на заготовку печат...
Характеристики и области применения продукта • Сухой пленочный негативный фоторезист. Обрабатывается водными растворами. • Материал специально разраб...
Системы очистки поверхности TEKNEK Компания ТЕКNЕК-это мировой лидер в области контактной очистки поверхности полотна, развивает технологию применения...
Позитивная диазопленка для изготовления фотошаблонов при экспонировании защитных масок при пайке. Диазопленка предназначена для всех приложений в РСВ...