Установка MDA-60MS Прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель пластин и подложек до 6'' / 8". Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
Операции с помощью компьютера.
Более 100 рецептов
Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
Антивибрационный стол
Эргономичный дизайн для удобного использования
Характеристики:
Параметр MDA-60MS MDA-60MS (8") Мощность лампы УФ источник света с мощностью1 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения. УФ источник света с мощностью1 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Размер подложки кусочки, пластины до 6 дюймов, размер подложек 6х6 дюйма кусочки,пластины до 8 дюймов, размер подложек 8х8 дюйма
Точность совмещения 1 микрон 1 микрон
Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Siпластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм) 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Siпластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм)
Размер маски 7 х 7 дюймов 9 х 9 дюймов
УФ лампа 1 кВт. 1 кВт.
Оптическое зрение Микроскоп двойного поля (80x -1000x увеличение, 1600х - опция), CCD камера Микроскоп двойного поля (90x - 500x,или 180х-1000хувеличение 1600х - опция), CCDкамера
Размер однородного пучка излучения 7,25 х 7,25 дюймов 9,25 х 9,25 дюймов
Однородность пучка < 3-5% < 3-5%
Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 15-20 мВт/см2 Максимальная 15-20 мВт/см2
Режим управления С помощью ПК С помощью ПК
Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс
Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 5 мм) и по углу ? (± 5°) Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 5 мм) и по углу ? (± 5°)
Выравнивание Компенсация ошибки клина
автоматическое определение края - датчик давления)
Компенсация ошибки клина
автоматическое определение края - датчик давления)
Методы экспонирования Мягкий контакт,жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм с помощью системы на базе ПО) Мягкий контакт,жесткий контакт,вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм с помощью системы на базе ПО)
Стол Антивибрационный стол Антивибрационный стол
Опции Обратное совмещение с помошью CCD камер, Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ излучения (DUV) Обратное совмещение с помошью CCD камер, Датчик интенсивности УФ излучения и дальнего УФ излучения (DUV)
